北京定制Mitsubishi三菱IGBT模块销售厂家 江苏芯钻时代电子科技供应

    在背面减薄之后以及形成所述集电区之前，还包括进行一导电类型重掺杂注入并进行退火在所述漂移区的底部表面形成有由一导电类重掺杂区组成的电场中止层，后续形成的所述集电区位于所述电场中止层的背面。进一步的改进是，所述电荷存储层的掺杂浓度至少大于所述漂移区的掺杂浓度的一个数量级。进一步的改进是，所述igbt器件为n型器件，一导电类型为n型，第二导电类型为p型；或者，所述igbt器件为p型器件，一导电类型为p型，第二导电类型为n型。本发明具有如下有益技术效果：1、本发明对器件单元结构中的栅极结构的屏蔽结构做了特别的设置，在栅极结构的两侧设置有形成于沟槽中的屏蔽电极结构即第二屏蔽电极结构，再加上形成于栅极结构的沟槽底部的一屏蔽电极结构，一起作用栅极结构的屏蔽电极，这种屏蔽电极结构由于是通过沟槽填充形成，有利于缩小器件的沟槽的步进，较小的沟槽步进能从而降低igbt器件的输入电容、输出电容和逆导电容，提高器件的开关速度；2、本发明同时还将一屏蔽电极结构对应的一屏蔽多晶硅和第二屏蔽电极结构对应的第二屏蔽多晶硅都通过接触孔连接到金属源极，实现和发射区的短接，这样能降低栅电容，增强器件短路电流的能力，提高器件的抗冲击能力。

    所述发射区通过顶部的对应的接触孔连接到所述金属源极；令所述发射区顶部对应的接触孔为源极接触孔11，所述源极接触孔11还和穿过所述发射区和所述阱区2接触。所述一屏蔽多晶硅4a和所述第二屏蔽多晶硅4b也分布通过对应的接触孔连接到所述金属源极。步骤十、如图1所示，对所述半导体衬底进行背面减薄，进行第二导电类型重掺杂注入并进行退火在所述漂移区1的底部表面形成有由第二导电类重掺杂区组成的集电区9。更择为，在背面减薄之后以及形成所述集电区9之前，还包括进行一导电类型重掺杂注入并进行退火在所述漂移区1的底部表面形成有由一导电类重掺杂区组成的电场中止层8，后续形成的所述集电区9位于所述电场中止层8的背面。步骤十一、如图1所示，在所述集电区9的底部表面形成由背面金属层13组成的金属集电极。通过形成于所述栅极结构两侧的具有沟槽101式结构的所述第二屏蔽电极结构降低igbt器件的沟槽101的步进，从而降低igbt器件的输入电容、输出电容和逆导电容，提高器件的开关速度；通过将所述一屏蔽多晶硅4a和所述第二屏蔽多晶硅4b和所述金属源极短接提高器件的短路电流能力；通过所述电荷存储层14减少器件的饱和压降。

江苏芯钻时代电子科技有限公司，专业从事电气线路保护设备和电工电力元器件模块的服务与销售，具有丰富的熔断器、电容器、IGBT模块、二极管、可控硅、IC类销售经验的专业公司。公司以代理分销艾赛斯、英飞凌系列、赛米控系列，富士系列等模块为主，同时经营销售美国巴斯曼熔断器、 西门子熔断器、美尔森熔断器、力特熔断器等电气保护。